nbsp; 来源:The Information
备。平泽P5 PH1所需的这些光刻机来自ASML和佳能,其中约20台为ASML的EUV曝光系统。P5 PH1将用于1c nm制程DRAM生产,将同时制造通用内存和HBM。(财联社)原文链接
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发布时间:17:50:09